• 廠商簡介:
電漿乾蝕刻與薄膜沉積系統運用於半導體、光電、發光二極體、有機發光顯示器與微機電產業。

• 產品:
     -200 Series  ICP, RIE, PECVD, ICPCVD, DECR
     -300 Series  RIE, PECVD, ICP (Corial 300 IL especially for PSS)

• 廠商簡介:
BAK 蒸鍍沉積與蝕刻設備以及MSP Sputter Tool 與 Radiance cluster 濺鍍機系統，成功幫助製造商生產出最先進的半導體晶片，光學濾膜與鏡片。

• 產品:
-BAK系列蒸鍍機( 最新應用: LED back side reflector & DBR deposition)
-MSP sputter 與Radiance Cluster系列濺鍍機(最新應用: LED ITO & DBR deposition)
-系統零組件供應與舊機升級翻新